考慮現有ArF浸潤式制程,不易將DRAM微縮至10納米,三星計劃在南韓華城廠增建EUV專用的DRAM產線,2019年初生產10nm級(1z)制程DRAM,盡可能在DRAM市場與競爭對手維持技術差距。電子設計模塊
據韓媒Digital Times報導,三星電子即將在華城廠區17產線附近的停車場空地增建1條新的EUV專用產線,最快2017年12月就會動工,預定2019年啟用,將利用初期10納米技術生產DRAM,開業界先河。
韓國ETNews報道稱,三星華城Line 17工廠預計投資在2.5萬億到3萬億韓元之間,約合22-26.4億美元,以300mm晶圓計算,擴建之后每月產能將提升3.5萬片晶圓,目前的產能約為4萬片晶圓/月。
三星華城廠區內有DRAM、NAND Flash、晶圓代工等多種半導體產線,目前三星還在研議是否將這條EUV產線與其余7條原本的半導體產線、輸送帶連接運行。
業界認為,三星除了要在晶圓代工使用EUV設備,也有意將EUV設備用在DRAM生產,2019年領先同業量產1znm制程DRAM。
三星增建產線會在當地帶來交通負荷,但最近華城市政府已通過交通影響環評審議,因此三星只需完成剩余的建廠申請行政流程,立刻就可以動工。三星雖未明確公布將使用幾臺EUV設備,但業界推測應在4~8臺。
皆為保住DRAM市場龍頭寶座
半導體大廠搶進先進制程,尤以10納米以下必須導入波長只有13.5納米的極紫外光(EUV),才能降低晶圓制造的光罩數,縮短芯片制程流程。由于要價1.5億美元(折合新臺幣約45億元)的EUV設備,目前只有艾司摩爾(ASML)獨家供應。
三星在2016年10月開始以現有的曝光設備反復刻畫電路量產18nm DRAM,至今尚未公布1ynm DRAM量產計劃,業界認為三星已準備好1znm量產技術,只是無法決定導入時間點。
熟悉三星電子情況的人士說,原則上三星的EUV機臺只會用在7納米晶圓代工,不過有些可以拿來生產DRAM。三星最可能以ASML生產的EUV機臺進行量產,預料將裝設4~8臺EUV設備,但機臺價格動輒數千億韓元,制程速度慢是最大缺點,三星能否獲利仍是未知數,。
專家預測,雖然導入EUV仍有幾項缺點,三星仍會考慮用EUV生產10納米DRAM,以維持市場龍頭寶座。前不久韓媒曾報導三星擬訂下ASML近90%的機臺,以阻礙臺積電等廠的量產進度。
三星是全球DRAM霸主,市調機構的資料顯示,2017年第3季三星在移動設備與服務器DRAM市場的占有率各為58.3%、45.9%,DRAM的營業利益率更高達62%。2016年下半年首先量產18納米DRAM,今年下半年將推進至15納米,制程領先對手1至2年。
據韓媒報導,三星電子的半導體事業司令部已由器興移到華城。會長權五鉉執掌半導體暨設備解決方案事業部(DS)時期,權五鉉的辦公室位于器興廠區,社長金奇南接任DS部長后,每天上下班地點是華城廠區內的半導體零組件研究大樓,業界認為金奇南將會加強對系統半導體事業的管理效率。
SK海力士、美光拼命追趕
另外,三星的競爭對手SK海力士也有意以更先進制程生產DRAM。傳聞2017年第4季SK海力士將啟動1xnm DRAM生產,并在2018年下半開發出1ynm DRAM制程,但SK海力士并未明確提到是否采用EUV設備。
DRAM第三大廠美光也在拼命追趕。美光已于今年第一季量產18納米DRAM,計劃未來兩三年砸下20億美元,研發13納米DRAM制程。美光在日本廣島廠增設無塵室設備,并購買了多項高價生產儀器,進入13納米制程之后,同一片晶圓能分割成更多芯片,生產力將提高20%。