關鍵字:7nm工藝 TSMC臺積電 Xilinx 電子實驗室模塊
雙方合作將為賽靈思帶來在多節點擴展的優勢,并進一步延續其在 28nm、20nm 和 16nm 工藝節點所實現的出色的產品、執行力和市場成功。
“臺積公司是我們在 28nm、20nm 和 16nm 實現‘三連冠(3 Peat)’成功的堅實基礎。其出色的工藝技術、3D 堆疊技術和代工廠服務,讓賽靈思在出色的產品、優異的品質、強大的執行力以及領先的市場地位上享有了無與倫比的聲譽。同時,他們還助力賽靈思產品組合成功轉型至新一代的 SoC、MPSoC 和 3D IC,進一步補充和完善了我們世界級的 FPGA 產品。我們相信臺積公司的 7nm 技術將會為賽靈思帶來更大的變革。”
——Moshe Gavrielov,賽靈思公司總裁兼 CEO
“臺積公司非常高興能夠和賽靈思一起實現其第四代突破性產品。基于兩家公司一貫良好的協作與執行力記錄,我們此次合作將為賽靈思帶來向新一代擴展和3D集成的優勢。”
——劉德音(Mark Liu) 博士,臺積公司總經理兼聯合 CEO
賽靈思計劃于 2017 年推出 7nm 產品。今年稍早,臺積電宣布采用配備80W光源的ASML NXE:3300B EUV微影系統,在24小時內曝光1,000片晶圓,主要用于7nm工藝節點的研發和實驗。